• <menu id="4wyig"></menu><nav id="4wyig"><strong id="4wyig"></strong></nav>
  • Product Center

    產品中心

    當前位置:首頁  >  產品中心  >  原子層沉積  >  

    相關文章

    • ALD 原子層沉積

      ALD 原子層沉積原理通過在工藝循環周期內分步向真空腔內添加前驅體、實現對膜層厚度的精確控制。區別于普通CVD或PECVD原理,ALD可沉積超薄的、無針孔和顆粒的膜層,例如在3D結構上沉積幾個納米厚的薄膜,同時具有出色的均勻性和優秀的保形比。

      更新日期:2024-03-18
      型號:
      點擊量:156
      廠商性質:經銷商
    共 1 條記錄,當前 1 / 1 頁  首頁  上一頁  下一頁  末頁  跳轉到第頁 
    010-82900840
    歡迎您的咨詢
    我們將竭盡全力為您用心服務
    關注微信
    版權所有 © 2024 北京瑞科中儀科技有限公司  備案號:京ICP備11027741號-3
    一本久久综合亚洲鲁鲁五月天_国产精品国色综合久久_日韩精品无码免费专区午夜不卡_再深点灬舒服灬太大了网站
  • <menu id="4wyig"></menu><nav id="4wyig"><strong id="4wyig"></strong></nav>